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PVDF高分子壓電薄膜主要有以下優(yōu)點： （1）質量輕，粘貼在被測物體上對原結構幾乎不產(chǎn)生影響，高彈性柔順性，可以加工成特定形狀可以與任意被測表面，機械強度高，抗沖擊； （2）高電壓輸出，在同樣受力條件下，輸出電壓比普通壓電材料高10倍； （3）高介電強度，可以耐受強電場的作用（75V/um），不容易退極化了； （4）聲阻抗低，與水、人體組織以及粘膠體相接近； （5）頻響寬，從10

CXSJ-2000原位高溫成像燒結試驗儀是一款專門用于原位測量造型材料的原砂、混合料和陶瓷原料燒結點溫度、耐火度的一種高溫條件下，通過顯微鏡觀察透射投影時燒結的原位情況，。通過這種裝置可使試驗者在鏡屏上清晰地看到試樣在高溫情況下，材料試樣的體積收縮、膨脹純化及球化的情況并得知各種情況發(fā)生時的相應溫度。為生產(chǎn)選擇材料提供依據(jù)，也可為科研、教學提供測試手段。廣泛用于鑄造、陶瓷、玻璃等行業(yè)及教學、科研部

PVDF-300型桌式壓電薄膜極化裝置是一款應用Piezotech 聚合物成型電壓極化的裝置，輸出電壓任意可調，輸出穩(wěn)定，效果高，效果好，采用數(shù)字化設計，即可加熱，又可以加硅油，多種極化方式組合，即極化即測試，配合中科院ZJ-3型精密D33測試儀，實時提供所測樣品的數(shù)據(jù)。

HTR-4立式4寸快速退火爐（芯片熱處理設備）廣泛應用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結構和光電性能，技術指標高、工藝復雜、專用性強。

HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術，可實現(xiàn)1-10片樣品同時進行，可實現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到的溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。 主要應用領域： 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RT

JKZC-SRY30全自動實驗熱壓機是一款是聚合物以及陶瓷樣品的制備重要實驗設備，機器裝有可編程液晶顯示器，可設定壓力、溫度、時間和排氣次數(shù)及秒數(shù)，人機界面作業(yè)系統(tǒng)，硫化過程動態(tài)即時顯示和監(jiān)視，模壓程序全數(shù)自動完成。機器結構簡單，適用廣泛高效。同時適用橡塑膠原料、顏料、油默、化工原料等。將各原料放于模內，夾于本機電熱平板間，加以合適壓力及溫度，使原料成型。